发明名称 Anordnung zur Erzeugung von intensiver kurzwelliger Strahlung auf Basis eines Gasentladungsplasmas
摘要 Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Erzeugung von intensiver kurzwelliger Strahlung auf Basis eines Gasentladungsplasmas. DOLLAR A Die Aufgabe, eine neue Möglichkeit zur Erzeugung von intensiver kurzwelliger Strahlung, insbesondere EUV-Strahlung, auf Basis eines Gasentladungsplasmas zu finden, die eine hohe Lebensdauer des Elektrodensystems bei hoher Gesamteffizienz der Strahlungsquelle erreicht, ohne dass sich die Dimensionen der Entladungseinheit wesentlich vergrößern, wird erfindungsgemäß gelöst, indem bei zylindersymmetrischer Elektrodenanordnung zur Isolation von Katode (21) und Anode (22) gegeneinander ausschließlich geeignet geformte ringspaltförmige Vakuumisolationsbereiche (13; 14) vorgesehen sind, die in Abhängigkeit vom Produkt aus Gasdruck (p) und Elektrodenabstand (d) zwischen Katode (21) und Anode (22) ausgebildet sind, um Elektronenüberschläge zuverlässig zu unterdrücken.
申请公布号 DE102005025624(A1) 申请公布日期 2006.12.07
申请号 DE20051025624 申请日期 2005.06.01
申请人 XTREME TECHNOLOGIES GMBH 发明人 KOROBOCHKO, VLADIMIR;KELLER, ALEXANDER;KLEINSCHMIDT, JUERGEN
分类号 H05G2/00 主分类号 H05G2/00
代理机构 代理人
主权项
地址