Polymer für die Immersionslithographie, Photoresistzusammensetzung, die selbiges enthält, Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung und Halbleitervorrichtung

摘要

Ein Polymer für die Immersionslithographie, umfassend eine Wiederholeinheit, dargestellt durch Formel 1, und eine Photoresistzusammensetzung, die selbiges enthält. Ein Photoresistfilm, der durch die Photoresistzusammensetzung der Erfindung ausgebildet wurde, ist gegenüber Auflösen hoch resistent, ein Photosäurebildner in einer wässrigen Lösung für die Immersionslithographie, wodurch die Verunreinigung einer Belichtungslinse und die Deformierung des Photoresistmusters durch Belichtung verhindert wird.