发明名称 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON EINEM SILIZIUM WAFER MIT IDEALEM SAUERSTOFFNIEDERSCHLAGVERHALTEN
摘要
申请公布号 DE69933777(D1) 申请公布日期 2006.12.07
申请号 DE19996033777 申请日期 1999.08.27
申请人 MEMC ELECTRONIC MATERIALS INC. 发明人 FALSTER, J.
分类号 H01L21/322;H01L21/324 主分类号 H01L21/322
代理机构 代理人
主权项
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