| 发明名称 | 基板处理系统 | ||
| 摘要 | 在本发明的基板处理系统中，具有能收纳基板的多个第1单元、和在与第1单元之间进行基板的输送的第2单元。第1单元和第2单元，俯视观察时并列设置，在多个上述第1单元的至少某一个中包括进行基板的处理的处理单元。多个第1单元沿水平方向并列，上述第1单元能在水平方向上移动，以便上述多个第1单元中的沿水平方向相邻的至少2个第1单元能相对于上述第2单元交接基板。根据本发明，在具备多个单元的基板处理系统中，能灵活地应对多种基板处理方法，降低基板间的处理时间差和基板的输送等待时间。 | ||
| 申请公布号 | CN1873942A | 申请公布日期 | 2006.12.06 |
| 申请号 | CN200610087898.6 | 申请日期 | 2006.05.29 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 清田健司 |
| 分类号 | H01L21/677(2006.01);H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/677(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 温大鹏 |
| 主权项 | 1.一种进行基板的处理的基板处理系统，其特征在于，具有能收纳基板的多个第1单元、和在与接近的上述第1单元之间进行基板的输送的第2单元，上述第1单元和上述第2单元，俯视观察时并列设置，在多个上述第1单元的至少某一个中包括进行基板的处理的处理单元，多个上述第1单元沿上下方向并列，上述第1单元能在上下方向上移动，以便上述多个第1单元中的上下相邻的至少2个第1单元能相对于上述第2单元交接基板。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||