| 发明名称 | 光刻装置和器件制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明通过向包封着组件的第一隔室10的内部提供第一净化气流11，12，和向隔室10的外表面提供第二净化气流16，17，提供一种阻止污染物侵入到组件中的装置。 | ||
| 申请公布号 | CN1288504C | 申请公布日期 | 2006.12.06 |
| 申请号 | CN03110533.5 | 申请日期 | 2003.01.30 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | J·J·S·M·梅尔藤斯 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);G03F9/00(2006.01);G06T11/20(2006.01);G06K15/12(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 章社杲 |
| 主权项 | 1.一种光刻投射装置，包括：用于由一辐射源发射的辐射提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据要求的图案对投射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统；第一隔室，由所述辐射源发射的辐射通过该第一隔室，并且该第一隔室内装有对污染物敏感的组件；用第一净化气体净化第一隔室内部的第一供气部件；以及用于向限定第一隔室的包壳外表面提供第二净化气流的第二供气部件；其特征在于：所述第一隔室位于一第二隔室之内，其中所述第二供气部件净化第一和第二隔室之间的空间。 | ||
| 地址 | 荷兰维尔德霍芬 | ||