发明名称 磁存储器及其制造方法
摘要 本发明提供一种可靠性高的磁存储器及其制造方法。在磁轭(5)和感磁层(5b)的磁连接部附近,感磁层(5b)内的磁化的方向紊乱。即,如果读出时起作用的感磁层(5b)中的固定层相对区域的磁化的方向不紊乱,则可靠性提高。所以,在本磁存储器中,使固定层(43、44)的面积(S1)比感磁层(5b)的面积(S2)小,在感磁层(5b)的与固定层相对的部分,形成与其周围的区域相比、磁化的方向相对不紊乱的结构,使数据读出时的可靠性提高。
申请公布号 CN1873827A 申请公布日期 2006.12.06
申请号 CN200610085067.5 申请日期 2006.05.31
申请人 TDK株式会社 发明人 古贺启治
分类号 G11C11/15(2006.01);H01L27/10(2006.01);H01L43/08(2006.01) 主分类号 G11C11/15(2006.01)
代理机构 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人 龙淳
主权项 1.一种磁存储器,具有二维排列的多个存储区域,其特征在于:所述多个存储区域分别具有:将感磁层、非磁性层和固定层叠层形成的磁阻效应元件;包围写入配线的外周并产生赋予所述感磁层的磁力线的磁轭;和与所述磁阻效应元件电连接的读出配线,所述固定层的面积比所述感磁层的面积小。
地址 日本东京