| 发明名称 | 电子束处理设备 | ||
| 摘要 | 本发明的一个实施例是电子束处理设备，其包括：(a)室；(b)具有暴露到室的内部的相对较大面积表面的阴极(122)；(c)其中具有孔的阳极(126)，其暴露在室的内部并与阴极间隔工作距离；(d)布置在室内部面对阳极的晶片保持器(130)；(e)负电压源(129)，其输出施加到阴极以提供阴极电压；(f)电压源(131)，其输出施加到阳极；(g)适合于允许气体以气体引入速率进入室的气体入口(129)；和(h)适合于以排出速率从室排出气体的泵(135)，所述引入速率和所述排出速率在室中提供气体压力；其中阴极电压、气体压力和工作距离的值设置为使得阴极和阳极之间没有电弧并且工作距离大于电子平均自由路径。 | ||
| 申请公布号 | CN1875452A | 申请公布日期 | 2006.12.06 |
| 申请号 | CN200480031666.8 | 申请日期 | 2004.10.29 |
| 申请人 | 应用材料公司 | 发明人 | 亚历山德罗斯·T·迪莫斯;哈里·K·波奈卡恩提;赵军;海伦·R·阿默 |
| 分类号 | H01J37/077(2006.01) | 主分类号 | H01J37/077(2006.01) |
| 代理机构 | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 赵飞 |
| 主权项 | 1.一种电子束处理设备，包括：(a)室，其中具有：(i)包括能够产生电子的暴露的表面区域的阴极；(ii)具有孔的阳极，所述阳极与所述阴极间隔工作距离，所述工作距离大于由所述阴极产生的电子的电子平均自由路径；(iii)面对所述阳极的晶片保持器；(iv)允许气体以气体引入速率进入所述室的气体入口；和(v)将气体从所述室以气体排出速率排出的泵，所述气体引入速率和所述气体排出速率在所述室内提供了气体压力；(b)负电压源，其输出施加至所述阴极以提供阴极电压；和(c)电压源，其输出施加至所述阳极，其中所述阴极电压值、所述室中的气体压力值和所述工作距离值使得在以比所述电子平均自由路径大的工作距离间隔开的所述阴极和所述阳极之间没有电弧。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||