发明名称 | 蚀刻组合物 | ||
摘要 | 本发明提供蚀刻组合物,采用所述组合物可以以下部膜Al-Nd或Mo不产生底切现象的方式通过单一工序对构成薄膜晶体管液晶显示装置的TFT的栅极配线材料Al-Nd/Mo双层膜或Mo/Al-Nd/Mo三层膜进行湿式蚀刻,并可以获得优异的锥度,同时源极/漏极配线材料Mo单层膜也可以形成优异的轮廓。本发明的薄膜晶体管液晶显示装置的蚀刻组合物含有磷酸、硝酸、乙酸、磷酸盐阴离子表面活性剂和水。 | ||
申请公布号 | CN1873054A | 申请公布日期 | 2006.12.06 |
申请号 | CN200610084694.7 | 申请日期 | 2006.05.29 |
申请人 | 东进世美肯株式会社 | 发明人 | 李骐范;曺三永;申贤哲;金南绪 |
分类号 | C23F1/16(2006.01) | 主分类号 | C23F1/16(2006.01) |
代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 丁香兰 |
主权项 | 1、一种薄膜晶体管液晶显示装置的蚀刻组合物,其含有:a)40重量%~80重量%的磷酸、b)2重量%~15重量%的硝酸、c)3重量%~20重量%的乙酸、d)0.01重量%~5重量%的磷酸盐、e)0.001重量%~1重量%的阴离子表面活性剂、以及f)剩余量的水。 | ||
地址 | 韩国仁川市 |