发明名称 | 可重写光学数据存储媒体及其应用 | ||
摘要 | 描述了一种利用聚焦辐射光束的高速记录可重写光学数据存储媒体(20)。该媒体(20)包括承载多个层(2)的基底(7),所述多个层(2)包括,基本上透明的第一辅助层I1(3),厚度为d<SUB>I2</SUB>的基本上透明的第二辅助层I2(5),和厚度为d<SUB>p</SUB>并且包括至少一种Ge<SUB>x</SUB>Sn<SUB>y</SUB>Sb<SUB>1-x-y</SUB>化合物的相变材料的记录层(4),其中0.05<x<0.30且0.15<y<0.30。记录层(4)被设置在I1和I2之间。厚度为d<SUB>13</SUB>的用于散热的第三辅助层I3(6)被设置在与记录层相背的I2侧。满足以下不等式λUB>>5*10<SUP>8</SUP>Wm<SUP>-2</SUP>K<SUP>-1</SUP>,其中λ以提供了一种能够以大约35M/S或者更高的相对较高的线性记录速度进行记录的光学数据存储媒体。 | ||
申请公布号 | CN1875415A | 申请公布日期 | 2006.12.06 |
申请号 | CN200480032484.2 | 申请日期 | 2004.11.01 |
申请人 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 发明人 | L·范皮德森;J·C·N·里帕斯 |
分类号 | G11B7/24(2006.01) | 主分类号 | G11B7/24(2006.01) |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 吴立明;王忠忠 |
主权项 | 1、一种利用聚焦辐射光束(10)的高速记录可重写光学数据存储媒体(20),所述媒体包括承载多个层(2)的基底(7),所述多个层包括,基本上透明的第一辅助层I1(3),厚度为dI2的基本上透明的第二辅助层I2(5),和包括一种GexSnySb1-x-y化合物的相变材料的记录层(4),其中0.05<x<0.30且0.15<y<0.30,该记录层被设置在I1和I2之间,厚度为d13的用于散热的第三辅助层I3(6)被设置在与记录层相背的I2侧,特征在于满足不等式λI2/dI2>5*108Wm-2K-1,其中λI2是I2层材料的热传导系数。 | ||
地址 | 荷兰艾恩德霍芬 |