| 发明名称 | 光刻胶聚合物、光刻胶组合物及制造半导体装置的方法 | ||
| 摘要 | 一种含氟组分的光刻胶聚合物、一种含有该光刻胶聚合物及用以降低表面张力的有机溶剂的光刻胶组合物，及一种通过在下层图案的整个表面上均匀地形成光刻胶薄膜来允许随后的离子注入过程稳定地进行来使用该光刻胶组合物制备半导体装置的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN1873533A | 申请公布日期 | 2006.12.06 |
| 申请号 | CN200510137504.9 | 申请日期 | 2005.12.29 |
| 申请人 | 海力士半导体有限公司 | 发明人 | 郑载昌 |
| 分类号 | G03F7/004(2006.01);G03F7/20(2006.01);G03F7/00(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F7/004(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 宋莉;贾静环 |
| 主权项 | 1.一种光刻胶聚合物，其包含由式1表示的聚合重复单元：[式1]<img file="A2005101375040002C1.GIF" wi="1085" he="721" />其中R<sub>1</sub>为H或C<sub>1</sub>-C<sub>2</sub>烷基；R<sub>2</sub>为C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>全氟烷基或部分F取代的C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>烷基；R<sub>3</sub>为对酸敏感的保护基团；及a∶b∶c∶d的相对比例为10∶10-30∶2-8∶2-8，以重量份计。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||