发明名称 基板输送装置
摘要 一种基板输送装置,在气缸的突出量增加时,如果磁圆板旋转,则利用作用于磁圆板之间的磁力,使磁铁与输送轴一起旋转,以比X-Y平面倾斜规定角度的状态支持输送轴。通过旋转输送轴,而由输送轴的小型输送辊向X方向输送基板。在气缸的突出量减小时,设在输送轴一端的磁圆板向从倾斜壁远离的方向移动,不在磁电极圆板之间作用磁力。此外,从倾斜规定角度的状态,向与X-Y平面平行的状态转换输送轴。此时,输送轴的小型输送辊的外周面的顶部位于大型输送辊的外周面的顶部的下方。由此,由大型输送辊支持基板。
申请公布号 CN1288050C 申请公布日期 2006.12.06
申请号 CN200410007075.9 申请日期 2004.02.27
申请人 大日本网目版制造株式会社 发明人 小原茂;冈田尚久;长田直之;南茂树
分类号 B65G13/02(2006.01);B65G47/22(2006.01) 主分类号 B65G13/02(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 汪惠民
主权项 1.一种基板输送装置,用于输送基板,其特征在于:包括具有输送室,该输送室被壁部包围的同时具有基板出入口,可旋转地设在上述输送室内的多个第1输送轴,与上述多个第1输送轴同心设置且支持基板的第1辊,通过移动或倾斜上述多个第1输送轴,而将上述多个第1输送轴变换成第1状态及第2状态的状态变换机构,设在上述输送室外、产生旋转力的旋转驱动机构,以及利用磁力将由上述旋转驱动机构产生的旋转力传递给上述第1输送轴的传递机构;上述传递机构,包括:与上述壁部对向地配置在上述输送室外、利用由上述旋转驱动机构产生的旋转力而旋转的第1磁铁,以及可与上述第1输送轴一起旋转地设在上述输送室内的第2磁铁;上述第1状态位于上述第2磁铁通过上述壁部与上述第2磁铁对置的第1位置,上述第2状态位于上述第2磁铁从上述第1位置离开的第2位置,上述第1状态,上述第1磁铁的旋转力通过上述壁部传递给所述第2磁铁。
地址 日本京都府