发明名称 用脉冲射频等离子体控制薄膜制备中的尘埃颗粒的方法
摘要 本发明属于低温等离子体化学领域。其特征是:对射频电源进行脉冲调制,就是使射频在一段时间内输出(射频工作),下一段时间内不输出(射频休止),二者交替进行,即射频工作方式是脉冲的;对射频电源可以一重调制,也可二重或多重调制;调节脉冲调制的频率和占空比,控制尘埃颗粒的大小,并在射频休止时间内将尘埃颗粒抽走;在这个阶段,可以选择适当的尘埃颗粒让其掺入制备的薄膜中。本发明的效果和益处是可控制等离子体中尘埃颗粒的大小,可对薄膜的性质进行适当的控制,可广泛用于沉积薄膜的各种领域,带来巨大的经济效益。
申请公布号 CN1873052A 申请公布日期 2006.12.06
申请号 CN200610076998.9 申请日期 2006.04.14
申请人 大连理工大学 发明人 张鹏云
分类号 C23C16/52(2006.01);C23C16/505(2006.01) 主分类号 C23C16/52(2006.01)
代理机构 大连理工大学专利中心 代理人 侯明远
主权项 1.一种用脉冲射频等离子体控制薄膜制备中的尘埃颗粒的方法,其特征是:(1)对射频电源进行一重、二重或多重脉冲调制,脉冲调制频率为2Hz-20KHz,占空比为5-95%;(2)由脉冲调制后的射频电源、电极、稳定和控制放电的匹配网络、尘埃颗粒监视部分、用于沉积薄膜的工作介质和相应的监控部分组成一套系统;(3)在脉冲调制后的射频电源的作用下,控制尘埃颗粒大小。
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