发明名称 |
用脉冲射频等离子体控制薄膜制备中的尘埃颗粒的方法 |
摘要 |
本发明属于低温等离子体化学领域。其特征是:对射频电源进行脉冲调制,就是使射频在一段时间内输出(射频工作),下一段时间内不输出(射频休止),二者交替进行,即射频工作方式是脉冲的;对射频电源可以一重调制,也可二重或多重调制;调节脉冲调制的频率和占空比,控制尘埃颗粒的大小,并在射频休止时间内将尘埃颗粒抽走;在这个阶段,可以选择适当的尘埃颗粒让其掺入制备的薄膜中。本发明的效果和益处是可控制等离子体中尘埃颗粒的大小,可对薄膜的性质进行适当的控制,可广泛用于沉积薄膜的各种领域,带来巨大的经济效益。 |
申请公布号 |
CN1873052A |
申请公布日期 |
2006.12.06 |
申请号 |
CN200610076998.9 |
申请日期 |
2006.04.14 |
申请人 |
大连理工大学 |
发明人 |
张鹏云 |
分类号 |
C23C16/52(2006.01);C23C16/505(2006.01) |
主分类号 |
C23C16/52(2006.01) |
代理机构 |
大连理工大学专利中心 |
代理人 |
侯明远 |
主权项 |
1.一种用脉冲射频等离子体控制薄膜制备中的尘埃颗粒的方法,其特征是:(1)对射频电源进行一重、二重或多重脉冲调制,脉冲调制频率为2Hz-20KHz,占空比为5-95%;(2)由脉冲调制后的射频电源、电极、稳定和控制放电的匹配网络、尘埃颗粒监视部分、用于沉积薄膜的工作介质和相应的监控部分组成一套系统;(3)在脉冲调制后的射频电源的作用下,控制尘埃颗粒大小。 |
地址 |
116024辽宁省大连市甘井子区凌工路2号 |