发明名称 模内转印薄膜及其制作方法
摘要 一种模内转印薄膜及其制作方法,制程包含:(一)、在透明基底层上形成一层亲水透明树脂层;(二)、将步骤(一)形成的亲水透明树脂层的物质以印刷方式于所需的选定图样位置留白,再以形成该选定图样所需的选定材质,采用印刷、蒸镀或溅镀作业方式而形成选定图样后,再经由水洗后即可呈现出明净状态且含有选定材质的选定图样;(三)、在耐磨层完成后再涂布或印刷接着剂层,即制成一可待提供塑胶射出成型的模内转印薄膜。本发明可适合实施于印刷电路板或背光板,以供配合塑胶射出成型使用,除具有轻、薄特性外,更具有极高透明度及优良的表面质量,且制程符合环保,又进一步可加入防EMI材质,使其获得良好的防EMI功能。
申请公布号 CN1872562A 申请公布日期 2006.12.06
申请号 CN200510073361.X 申请日期 2005.05.31
申请人 优立企业有限公司 发明人 许西岳
分类号 B41M5/00(2006.01);B44C1/165(2006.01) 主分类号 B41M5/00(2006.01)
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 代理人 党晓林
主权项 1、一种模内转印薄膜的制作方法,其特征在于,制程包含:(一)、在透明基底层上形成一层亲水透明树脂层;(二)、将步骤(一)形成的亲水透明树脂层的物质以印刷方式于所需的选定图样位置留白,再以形成该选定图样所需的选定材质,采用印刷、蒸镀或溅镀作业方式而形成选定图样后,再经由水洗后即可呈现出明净状态且含有选定材质的选定图样;(三)、在耐磨层完成后再涂布或印刷接着剂层,即制成一可待提供塑胶射出成型的模内转印薄膜。
地址 台湾省台北县