发明名称 激光光源的泵浦系统和包含这种泵浦系统的激光光源
摘要 泵浦系统(1)包含至少一个泵浦二极管(12),所述泵浦二极管(12)能够发射泵浦光束(5),其波长随温度而变化;泵浦系统(1)包含至少一个准直单元(13),以及至少一个选择性反射镜(14),所述选择性反射镜(14)包含多个光谱反射率峰值,用于根据泵浦二极管(23)的温度变化,每次将泵浦二极管(12)的操作锁定在这些峰值中的至少一个峰值上,以使泵浦系统(1)发射泵浦光束(5),根据温度的变化,接连对应于多个预定波长(λ1至λ4),所述泵浦光束(5)的波长逐步变化。
申请公布号 CN1874086A 申请公布日期 2006.12.06
申请号 CN200610079273.5 申请日期 2006.04.25
申请人 塞拉斯激光工业公司 发明人 J·-E·蒙塔纳;M·勒内夫
分类号 H01S3/0941(2006.01);H01S3/091(2006.01) 主分类号 H01S3/0941(2006.01)
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 杨凯;梁永
主权项 1.一种用于激光光源的泵浦系统,所述泵浦系统(1)包含:-至少一个泵浦二极管(12),能够发射至少一束泵浦光束(5),其波长(λ)随温度(T)而变化;-至少一个准直单元(13),与所述泵浦二极管(12)相关联;以及-至少一个选择性反射镜(14),用于选择所述泵浦二极管(12)的一个波长,其特征在于,所述选择性反射镜(14)被构成为以便包含多个光谱反射率峰值(P1至P4),用于根据所述泵浦二极管(12)的温度(T)的变化,每次将所述泵浦二极管(12)的操作锁定在这些光谱反射率峰值(P1至P4)中的至少一个上,以使所述泵浦系统(1)发射泵浦光束(5),根据温度(T)的所述变化,接连对应于多个预定波长(λ1至λ4),所述泵浦光束(5)的波长(λ)阶跃变化。
地址 法国奥尔良