| 发明名称 | 形成于半导体晶片上的结构的方位扫描 | ||
| 摘要 | 通过以入射角和方位角将入射光束引导到所述结构，来检查形成于半导体晶片上的结构。在方位角的范围内扫描入射光束以获得方位扫描。在方位扫描过程中，测量衍射光束的正交偏振分量。 | ||
| 申请公布号 | CN1875244A | 申请公布日期 | 2006.12.06 |
| 申请号 | CN200480031908.3 | 申请日期 | 2004.10.28 |
| 申请人 | 音质技术公司 | 发明人 | 约尔格·比朔夫;李世芳;牛新辉 |
| 分类号 | G01B11/24(2006.01) | 主分类号 | G01B11/24(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 付建军 |
| 主权项 | 1.一种用于检查形成于半导体晶片上的结构的方法，所述方法包括：以入射角和方位角将入射光束引导到所述结构；在方位角的范围内扫描入射光束以获得方位扫描；以及在方位扫描过程中，测量衍射光束的正交偏振分量。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||