| 发明名称 | 一种防雾自清洁玻璃及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明提出了一种防雾自清洁玻璃及其工业大规模制备的方法，它是采用磁控溅射技术，以纯钛靶及纯二氧化硅(石英)靶为靶材，分别采用直流反应磁控溅射及射频磁控溅射技术在干净的普通玻璃基底上镀制TiO<SUB>2</SUB>及SiO<SUB>2</SUB>薄膜，形成一种玻璃基底+TiO<SUB>2</SUB>/SiO<SUB>2</SUB>两层薄膜的防雾自清洁玻璃，或者是形成一种玻璃基底+SiO<SUB>2</SUB>/TiO<SUB>2</SUB>/SiO<SUB>2</SUB>三层薄膜的防雾自清洁玻璃。由本发明制得的自清洁玻璃具有良好的亲水性，特别是比普通单层TiO<SUB>2</SUB>薄膜的亲水性要好，主要体现在薄膜表面水的初始接触角明显低于单层TiO<SUB>2</SUB>薄膜，在停止紫外光照射以后的维持时间也要比普通单层TiO<SUB>2</SUB>薄膜要长很多。能够克服现有防雾自清洁玻璃对环境依耐性强的缺点。 | ||
| 申请公布号 | CN1872758A | 申请公布日期 | 2006.12.06 |
| 申请号 | CN200610019338.7 | 申请日期 | 2006.06.13 |
| 申请人 | 湖北大学 | 发明人 | 王浩;王君安;汪汉斌;杨辅军 |
| 分类号 | C03C17/34(2006.01);C03C17/23(2006.01);C03C4/00(2006.01) | 主分类号 | C03C17/34(2006.01) |
| 代理机构 | 武汉金堂专利事务所 | 代理人 | 丁齐旭 |
| 主权项 | 1、一种防雾自清洁玻璃，以普通玻璃为基板，其特征在于该玻璃基板上由直流反应磁控溅射和射频磁控溅射镀有TiO2/SiO2两层薄膜的防雾自清洁玻璃，或者SiO2/TiO2/SiO2三层薄膜的防雾自清洁玻璃。 | ||
| 地址 | 430062湖北省武汉市武昌区宝集安 | ||