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发明名称 chemical mechanical polishing method for semiconductor manufacture
摘要
申请公布号 KR100653986(B1) 申请公布日期 2006.12.05
申请号 KR20040099984 申请日期 2004.12.01
申请人 发明人
分类号 H01L21/304 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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