| 摘要 |
"MONITORAçãO DE PROCESSO DE LIMPEZA". A presente invenção refere-se a um padrão de sujeira para a monitoração de um processo de limpeza para um instrumento médico que inclui dois substratos substancialmente paralelos separados com dois espaçadores de espessura substancialmente igual, onde um espaço é formado entre os dois substratos com a sujeira no espaço. Os substratos e os espaçadores podem ser formados como peças integrais e encaixados sob pressão em conjunto. |
