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发明名称 Method of forming a thin film by atomic layer deposition
摘要
申请公布号 KR100653705(B1) 申请公布日期 2006.12.04
申请号 KR20040081940 申请日期 2004.10.13
申请人 发明人
分类号 C23C16/44;C23C16/50;C23C16/52 主分类号 C23C16/44
代理机构 代理人
主权项
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