| 主权项 |
1.一种接触式三维足形测量器,包含:一箱体具有一侧壁及一顶面;至少一感测组与该顶面导接设置,该感测组的尺寸系可容纳一置于其上之人脚足印的区域;该感测组具有多数线性位移感测元件,可感测出置于其上之足部表面所造成的线性位移;该各线性位移感测元件会将各参考点的位移値传送至一资料处理装置;且该资料处理装置会利用得自该等线性位移感测元件的位移値,而来提供一置于感测组上之足部表面的三维图形。2.如申请专利范围第1项之接触式三维足形测量器,其中该线性位移感测元件包含:一触头具有一第一端邻接于该顶面,及一第二端相反于该第一端,该触头可在一导件内朝向或离开该顶面地来侧向移位;弹压装置会使该触头朝该顶面弹抵;及一装置可在该触头被其上的人脚移位时感测出触头侧移离开该顶面的距离,并将该距离处理装置。3.如申请专利范围第2项之接触式三维足形测量器,其中用来感测该触头之侧移的装置包含:可感测出该触头的第二端由该顶面侧移离开之距离的光电感测装置。4.如申请专利范围第2项之接触式三维足形测量器,其中用来感测该触头之侧移距离的装置包含:可感测出该触头离该顶面侧移量的电容感测装置。5.如申请专利范围第2项之接触式三维足形测量器,其中用来感测该触头之侧移距离的装置包含:可感测出该触头离该顶面侧移量的光栅感测装置。6.如申请专利范围第2至5项中任一项的接触式三维足形测量器,其中该等触头系设在该感测组中而互相间隔大约15mm。7.如申请专利范围第1项之接触式三维足形测量器,其中该等线性位移感测元件系设在该感测组中而互相间隔大约15mm。8.如申请专利范围第1项之接触式三维足形测量器,其中该等线性位移感测元件的总侧移量系约为4mm。9.如申请专利范围第1项之接触式三维足形测量器,其中该感测组系呈长方形,且该足印的区域约为150mm310mm。10.如申请专利范围第1项之接触式三维足形测量器,其中该资料处理装置包含:一比较器可接收代表各线性位移感测元件之侧移量的电讯号;一数据收集单片机可接收来自该比较器的数据;一多路程式控制开关可接收来自该数据收集单片机的数据;一取样/保护电路可接收来自该多路程式控制开关的数据;一A/D转换器可接收来自该取样/保护电路的数据;一可程式化I/O介面可接收来自该A/D转换器的数据;及一装置可将该I/O介面的数据传送至一电脑,该电脑内具有软体能制成该三维图形。图式简单说明:第1图为本发明的电路方块图;第2图为本发明的外观平面顶视图;第3图为第2图之A-A截面图。 |
