| 主权项 |
1.一种彩色滤光片之制造方法,其包括以下步骤:提供一基板及具预定图案之第一光罩,于该基板上形成一黑矩阵层;提供一具预定图案之第二光罩,于该基板上形成第一干涉层,该第一干涉层系显示红色区域;提供一具预定图案之第三光罩,于该基板上形成第二干涉层,该第二干涉层系显示绿色区域;提供一具预定图案之第四光罩,于该基板上依次形成第三干涉层,该第三干涉层系显示蓝色区域。2.如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片之制造方法,其中形成该黑矩阵层、第一、第二及第三干涉层系采用物理气相沈积方法。3.如申请专利范围第2项所述之彩色滤光片之制造方法,其中该物理气相沈积方法系蒸镀法或溅镀法。4.如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片之制造方法,其中形成该黑矩阵层、第一、第二及第三干涉层系采用化学气相沈积方法。5.如申请专利范围第4项所述之彩色滤光片之制造方法,其中该化学气相沈积方法系电浆辅助化学气相沈积法。6.如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片之制造方法,其中该第一、第二及第三干涉层系由多层膜叠加而成。7.如申请专利范围第6项所述之彩色滤光片之制造方法,其中该多层膜系无机材质。8.如申请专利范围第7项所述之彩色滤光片之制造方法,其中该多层膜之材质系金属氧化物。9.如申请专利范围第7项所述之彩色滤光片之制造方法,其中该多层膜至少包括二种折射率不同之材质。10.如申请专利范围第8项所述之彩色滤光片之制造方法,其中该多层膜系二氧化钛、二氧化矽、五氧化二铌与五氧化二钽之任意组合。11.如申请专利范围第6项所述之彩色滤光片之制造方法,其中该多层膜层数至少为五层。12.如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片之制造方法,其中该黑矩阵层之材质系铬。13.如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片之制造方法,其中该黑矩阵层之材质系氧化铬。14.一种彩色滤光片,其包括:一基板;一黑矩阵层,该黑矩阵层系设置于该基板上;及一显示红、绿、蓝三色之区域,该显示红、绿、蓝三色之区域设置于该基板上;其中,该显示红、绿、蓝三色区域至少一区域系由无机材质构成。15.如申请专利范围第14项所述之彩色滤光片之制造方法,其中该无机材质系金属氧化物。16.如申请专利范围第14项所述之彩色滤光片,其中该显示红、绿、蓝三色之区域系由多层无机材质构成。17.如申请专利范围第16项所述之彩色滤光片之制造方法,其中该多层无机材质至少包括二种折射率不同之材质。18.如申请专利范围第16项所述之彩色滤光片之制造方法,其中该多层无机材质系二氧化钛、二氧化矽、五氧化二铌与五氧化二钽之任意组合。19.如申请专利范围第16项所述之彩色滤光片之制造方法,其中该多层无机材质之层数至少为五层。20.一种彩色滤光片,其包括:一基板;一黑矩阵层,该黑矩阵层系设置于该基板上;及一显示红、绿、蓝三色之区域,该显示红、绿、蓝三色之区域设置于该基板上;其中,该显示红、绿、蓝三色区域至少一区域系由干涉膜构成。21.如申请专利范围第20项所述之彩色滤光片之制造方法,其中该干涉膜之层数至少为五层。22.如申请专利范围第21项所述之彩色滤光片之制造方法,其中该干涉膜至少包括二种折射率不同之材质。23.如申请专利范围第20项所述之彩色滤光片之制造方法,其中该干涉膜之材质系无机材质。24.如申请专利范围第23项所述之彩色滤光片之制造方法,其中该无机材质系金属氧化物。25.如申请专利范围第23项所述之彩色滤光片之制造方法,其中该干涉膜系二氧化钛、二氧化矽、五氧化二铌与五氧化二钽之任意组合。图式简单说明:第一图(a)至(h)系一种先前技术彩色滤光片制造方法之示意图。第二图至第六图系本发明彩色滤光片之制造方法示意图,其中:第二图系本发明彩色滤光片之制造方法溅镀黑矩阵层示意图。第三图系本发明彩色滤光片之制造方法溅镀第一干涉层示意图。第四图系本发明彩色滤光片之制造方法之第一干涉层局部放大图。第五图系本发明彩色滤光片之制造方法溅镀第二干涉层示意图。第六图系本发明彩色滤光片之制造方法溅镀第三干涉层示意图。 |
