发明名称 |
溅镀靶及烧结体及利用这些制造之导电膜,以及有机EL元件及用于该元件之基板 |
摘要 |
制作一种烧结体,其系含有氧化铟、氧化锌、氧化锡中之一种以上之成分的溅镀靶,其特征为含有氧化铪、氧化钽、镧系氧化物及氧化铋中之一种以上之金属。此烧结体上贴上金属制厚板构成溅镀靶。利用此溅镀靶进行溅镀,在所定之基板上形成导电膜。此导电膜维持以往之透明性,实现较高之功函数。使用此导电膜时,可得到提高电洞之注入效率之EL元件等。 |
申请公布号 |
TW200641174 |
申请公布日期 |
2006.12.01 |
申请号 |
TW095120961 |
申请日期 |
2003.06.10 |
申请人 |
出光兴产股份有限公司 |
发明人 |
井上一吉;川村久幸 |
分类号 |
C23C14/50(2006.01);C23C14/34(2006.01);C23C14/14(2006.01);H05B33/26(2006.01) |
主分类号 |
C23C14/50(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
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地址 |
日本 |