光阻用化合物及感放射线性组成物

摘要

一种下式(1)所示的化合物：095103285-p01.bmp(式中，R^1、R^2、R^3、m0、n0、m1、n1、m2、n2、m3及n3系如说明书中所定义)。含有至少一种式(1)化合物及酸发生剂的组成物，系以简单制程形成高感度、高解像度、高耐热性且溶剂可溶性的非高分子系感放射线性光阻，其对于KrF等的准分子雷射光、电子线、极端紫外线(EUV)、X线等的放射线有感应。095103285-p01.bmp