发明名称 抛光浆及再生晶圆之方法
摘要 本发明抛光浆含有1至20重量%之微晶大小为10至1,000nm、平均粒径为30至2,000nm的单斜氧化锆粒子,分子内具有3个或以上之羧基的羧酸,以及四级烷基铵氢氧化物,而且此抛光浆具有9至12之pH值。本发明再生晶圆之方法包括利用上述抛光浆把用过的测试晶圆加以抛光、并将晶圆上形成的膜以及晶圆表面上形成的变质层加以去除的步骤,对晶圆的至少一面进行镜面抛光的步骤,以及洗净晶圆的步骤。
申请公布号 TW200641079 申请公布日期 2006.12.01
申请号 TW095117134 申请日期 2006.05.15
申请人 神户制钢所股份有限公司;神户精密股份有限公司 KOBE PRECISION INC. 美国 发明人 铃木哲雄;高田悟
分类号 C09G1/02(2006.01);H01L21/304(2006.01);H01L21/306(2006.01) 主分类号 C09G1/02(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本