发明名称 空气隧道浮动闸极记忆体细胞及其制造方法
摘要 一种空气隧道浮动闸极记忆体细胞,包含一空气隧道定义于一基材上,一第一多晶矽层(浮动闸极)定义在空气隧道上,一氧化层沉积在第一多晶矽层上,使得氧化层覆盖第一多晶矽层,且定义空气隧道的侧壁,一第二多晶矽层,作为一字元线,定义在氧化层上。本发明也揭露一种制造一空气隧道浮动闸极记忆体细胞的方法,形成一牺牲层于一基材上,形成一第一多晶矽层于牺牲层上,一氧化层沉积在第一多晶矽层上,使得氧化层覆盖第一多晶矽层,且定义牺牲层的侧壁,使用热磷酸(H3PO4)浸泡以蚀刻牺牲层,形成一空气隧道。
申请公布号 TW200642089 申请公布日期 2006.12.01
申请号 TW095114476 申请日期 2006.04.21
申请人 旺宏电子股份有限公司 发明人 吕函庭;赖二琨;谢光宇
分类号 H01L29/788(2006.01);H01L21/8247(2006.01) 主分类号 H01L29/788(2006.01)
代理机构 代理人 李贵敏
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行路16号