发明名称 | 空气隧道浮动闸极记忆体细胞及其制造方法 | ||
摘要 | 一种空气隧道浮动闸极记忆体细胞,包含一空气隧道定义于一基材上,一第一多晶矽层(浮动闸极)定义在空气隧道上,一氧化层沉积在第一多晶矽层上,使得氧化层覆盖第一多晶矽层,且定义空气隧道的侧壁,一第二多晶矽层,作为一字元线,定义在氧化层上。本发明也揭露一种制造一空气隧道浮动闸极记忆体细胞的方法,形成一牺牲层于一基材上,形成一第一多晶矽层于牺牲层上,一氧化层沉积在第一多晶矽层上,使得氧化层覆盖第一多晶矽层,且定义牺牲层的侧壁,使用热磷酸(H3PO4)浸泡以蚀刻牺牲层,形成一空气隧道。 | ||
申请公布号 | TW200642089 | 申请公布日期 | 2006.12.01 |
申请号 | TW095114476 | 申请日期 | 2006.04.21 |
申请人 | 旺宏电子股份有限公司 | 发明人 | 吕函庭;赖二琨;谢光宇 |
分类号 | H01L29/788(2006.01);H01L21/8247(2006.01) | 主分类号 | H01L29/788(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 李贵敏 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行路16号 |