发明名称 VALVULA MAGNETICA DE CONTROL DE GAS.
摘要 Válvula magnética para el control del caudal de gas, que comprende - un cuerpo principal (10) que tiene un alojamiento interior (11); - un conducto de conexión (12) mediante el cual se acopla a una carcasa (A) que tiene una entrada de gas (A2), una salida de gas (A3) y una abertura de válvula (A4) entre la entrada de gas (A2) y la salida de gas (A3); - una palanca de válvula (22); y - una espiga de válvula (20), unida a dicha palanca de válvula (22), mediante la cual se regula el caudal de gas a través de la abertura de válvula (A4); - un dispositivo actuador (30) accionado por un motor (31); y comprende también, en el interior del alojamiento (11) - una palanca giratoria (32) sobre la que actúa dicho dispositivo actuador (30) y comprendiendo dicha palanca giratoria (32) una sección roscada (321); - un disco de levas (33) que comprende un casquillo con rosca interior (331) que se rosca con la sección roscada (321) de la palanca giratoria (32); - elementos guía (13) mediante los cuales se restringe el giro del disco de levas (33), de modo que, durante la rotación de la palanca giratoria (32) dicho disco de levas (33) se desplaza longitudinalmente en uno u otro sentido dependiendo del sentido en el cual dicha palanca giratoria (32) esté girando; y - un elemento magnético (332) y un miembro magnético (23), dispuestos en el disco de levas (33) y en la palanca de válvula (22) respectivamente, o viceversa, en donde, una vez energizado el miembro magnético (23) y cuando el disco de levas (33) se desplaza hacia la palanca de válvula (22), el elemento magnético (332) atrae magnéticamente al miembro magnético (23), de modo que, mediante el giro de la palanca giratoria (32), se desplazan conjuntamente el disco de levas (33) y la palanca de válvula (22), obligando a que la espiga de la válvula (20) abra gradualmente la abertura de válvula (A4), caracterizada porque comprende también, en la superficie frontal de la espiga de la válvula (20), un conducto de paso (21) en contacto con la superficie interior de la apertura de válvula (A4), dicho conducto de paso (21) comprendiendo en su pared lateral una ranura (211) que aumenta gradualmente desde un extremo de la espiga de la válvula (20) en la dirección de la abertura de la válvula (A4), de modo que, durante la apertura de la espiga de la válvula (20), la 10 anchura de la ranura que sobresale sobre el borde de la abertura de la válvula (A4) aumenta gradualmente conforme al desplazamiento de la espiga de válvula (20), de modo que el gas puede circular a través de la sección saliente a través del borde de la abertura de la 15 válvula (A4) y durante la apertura de la espiga de la válvula (20), el caudal de gas aumenta para asegurar que se mantiene un suministro constante de gas.
申请公布号 ES2262963(T3) 申请公布日期 2006.12.01
申请号 ES20030380248T 申请日期 2003.10.27
申请人 PAUDEN SCIENTIFIC & TECHNOLOGICAL CO. LTD.;GEYSER GASTECH S.A. 发明人 HUANG, CHUN-CHEN
分类号 F16K31/04;F23N1/00 主分类号 F16K31/04
代理机构 代理人
主权项
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