| 摘要 |
Die Erfindung betrifft Abbildungssysteme, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, zur Abbildung einer in einer Objektebene des Abbildungssystems positionierbaren Maske auf eine in einer Bildebene des Abbildungssystems positionierbaren lichtempfindliche Schicht. Ein erfindungsgemäßes Abbildungssystem weist auf: ein objektebenenseitiges Teilsystem, welches ein erstes Zwischenbild mit einem objektebenenseitigen Abbildungsmaßstab beta¶o¶ erzeugt, wenigstens ein weiters Teilsystem, welches zwischen dem ersten Zwischenbild und der Bildebene ein weiteres Zwischenbild erzeugt, und ein bildebenenseitiges Teilsystem, welches das weitere Zwischenbild in die Bildebene mit einem bildebenenseitigen Abbildungsmaßstab beta¶i¶ abbildet, wobei die Bedingung 0,75 beta¶o¶ È beta¶i¶ 1,25 erfüllt ist. |
