发明名称 Gasentladungsquelle, insbesondere für EUV-Strahlung
摘要 Die vorliegende Erfindung betrifft eine Gasentladungsquelle, insbesondere für EUV-Strahlung und/oder weiche Röntgenstrahlung, bei der in einer Vakuumkammer zumindest zwei Elektroden mit einem zumindest annähernd kreisförmigen Umfang für eine Rotation drehbar gelagert sind, wobei die Elektroden an einer Raumposition einen geringen Abstand für die Zündung einer Gasentladung aufweisen und jeweils mit einem Reservoir für ein flüssiges, elektrisch leitfähiges Material derart in Verbindung stehen, dass sich während der Rotation über den kreisförmigen Umfang der Elektroden ein Flüssigkeitsfilm des elektrisch leitfähigen Materials bilden kann und über die Reservoirs ein Stromfluss zu den Elektroden ermöglicht wird. Die Elektroden sind bei der vorliegenden Gasentladungsquelle jeweils über ein Verbindungselement mit den Reservoirs verbunden, durch das über einen Teilabschnitt des kreisförmigen Umfangs jeder Elektrode ein Spalt zwischen der Elektrode und dem Verbindungselement entsteht, in dem das flüssige Material bei der Rotation der Elektrode über einen im Verbindungselement ausgebildeten Zulaufkanal aus dem Reservoir eindringen kann.
申请公布号 DE102005023060(A1) 申请公布日期 2006.11.30
申请号 DE20051023060 申请日期 2005.05.19
申请人 FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FOERDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. 发明人 NEFF, WILLI;PRUEMMER, RALF
分类号 H05G2/00 主分类号 H05G2/00
代理机构 代理人
主权项
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