| 发明名称 | 芳族不饱和化合物的制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供式(4)所示芳族不饱和化合物的制备方法，该方法包括使(a)式(1)所示化合物与(b)式(2)所示化合物或式(3)所示化合物，在(c)酸或经过水解能生成无机酸的化合物的存在下发生反应。式中Ar表示任选被取代的芳基或任选被取代的杂芳基，Y表示吸电子性基团，Z表示低级烷氧基。 | ||
| 申请公布号 | CN1871188A | 申请公布日期 | 2006.11.29 |
| 申请号 | CN200480030885.4 | 申请日期 | 2004.08.25 |
| 申请人 | 住友化学株式会社 | 发明人 | 王维奇;池本哲哉 |
| 分类号 | C07B37/04(2006.01);C07C67/343(2006.01);C07C69/734(2006.01);C07D209/10(2006.01) | 主分类号 | C07B37/04(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 邹雪梅 |
| 主权项 | 1.式(4)所示芳族不饱和化合物的制备方法：<img file="A2004800308850002C1.GIF" wi="572" he="221" />式中，Ar表示任选被取代的芳基或任选被取代的杂芳基，Y表示吸电子性基团，该方法包括使(a)式(1)所示化合物： Ar-H (1)式中，Ar表示与上述相同的意义，与(b)式(2)所示化合物：<img file="A2004800308850002C2.GIF" wi="619" he="221" />式中，Y表示与上述相同的意义，Z表示低级烷氧基，或式(3)所示化合物：<img file="A2004800308850002C3.GIF" wi="619" he="219" />式中，Y和Z表示与上述相同的意义，在(c)酸或经过水解能生成无机酸的化合物的存在下发生反应。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||