发明名称 METHOD FOR FORMING INTER-LAYER DIELECTRICS OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR100652294(B1) 申请公布日期 2006.11.29
申请号 KR20010082604 申请日期 2001.12.21
申请人 发明人
分类号 H01L21/31 主分类号 H01L21/31
代理机构 代理人
主权项
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