发明名称 |
基于纳米异质结构的非挥发性浮栅存储器 |
摘要 |
本发明涉及一种基于纳米晶粒的半导体非挥发性浮栅存储器,提出基于纳米异质结构的新型非挥发性浮栅存储器,一种基于纳米异质结构的非挥发性浮栅存储器,其包括:半导体衬底;在半导体衬底中掺杂形成源极和漏极,在源漏极间的沟道层正上方氧化形成隧穿氧化层;在隧穿氧化层上制备异质纳米结构;然后淀积控制氧化层和栅极;应用异质纳米结构的复合势垒作为浮栅存储单元。从而可以在编程时间基本不变的前提下,使存储时间显著增加,解决硅纳米晶粒浮栅存储器的编程时间与存储时间之间的矛盾,达到使纳米结构浮栅存储器既能快速擦写编程,又能长久存储。 |
申请公布号 |
CN1870299A |
申请公布日期 |
2006.11.29 |
申请号 |
CN200610085590.8 |
申请日期 |
2006.06.26 |
申请人 |
南京大学 |
发明人 |
施毅;闾锦;杨红官;张荣;濮林;韩平;顾书林;朱顺明;郑有炓 |
分类号 |
H01L29/788(2006.01);H01L29/40(2006.01);H01L27/115(2006.01) |
主分类号 |
H01L29/788(2006.01) |
代理机构 |
南京天翼专利代理有限责任公司 |
代理人 |
汤志武;王鹏翔 |
主权项 |
1.一种基于纳米异质结构的非挥发性浮栅存储器,其包括:半导体衬底;在半导体衬底中掺杂形成源极和漏极,在源漏极间的沟道层正上方氧化形成隧穿氧化层;在隧穿氧化层上制备异质纳米结构;然后淀积控制氧化层和栅极;其特征在于应用异质纳米结构的复合势垒作为浮栅存储单元。 |
地址 |
210093江苏省南京市汉口路22号 |