发明名称 硅薄膜太阳电池集成组件的制备技术
摘要 本发明涉及一种硅薄膜太阳电池集成组件,它的结构和制备技术,特别是具有氧化锌(ZnO)背反射电极的硅薄膜太阳电池集成组件及其制备技术。而ZnO背反射电极是硅薄膜太阳电池陷光结构的重要组成部分,可大幅提高电池效率。它涉及硅薄膜太阳电池集成组件的关键工艺——子电池内联集成技术,属于新型能源中薄膜太阳电池的技术领域。本发明采用掩膜蒸镀金属电极,结合湿法腐蚀ZnO的方法,实现具有ZnO背反射电极的硅薄膜太阳电池子电池的内联集成技术,最终获得硅薄膜太阳电池集成组件。该方法简单、成品率高、成本低,有利展示硅薄膜太阳电池低成本的优势。是一个结构设计思想巧妙的制备技术。
申请公布号 CN1287471C 申请公布日期 2006.11.29
申请号 CN200510014307.8 申请日期 2005.07.01
申请人 南开大学 发明人 赵颖;耿新华;张晓丹;魏长春;薛俊明;仁慧志;张德坤;孙建;侯国付;张建军;熊绍珍
分类号 H01L31/042(2006.01);H01L31/18(2006.01) 主分类号 H01L31/042(2006.01)
代理机构 天津市学苑有限责任专利代理事务所 代理人 解松凡
主权项 1.一种硅薄膜太阳电池集成组件的制备技术,它包括下述工艺流程:(1)透明导电薄膜TCO基片切割:将带有SnO2、ZnO等透明导电薄膜的玻璃切割为适当尺寸的衬底;(2)TCO基片清洗:将切割好的TCO衬底,采用专用电子清洗液,清洗;(3)TCO基片前电极激光划线:采用YAG激光器,对切割好的TCO衬底,进行激光划线;(4)硅薄膜电池制备:采用等离子增强化学气相沉积RF-PECVD技术,沉积pin型硅薄膜电池;(5)制备氧化锌ZnO背电极:采用金属有机化学气相沉积或溅射方法,制备ZnO背电极;(6)硅薄膜电池激光划线:采用YAG激光器,对硅薄膜电池进行激光切割;其特征在于:(7)Ag、Al或其它金属及其复合背电极:采用掩模板下的真空蒸镀方式获得;(8)腐蚀ZnO:以蒸镀的金属电极为掩模,由水与酸混合形成的腐蚀液体,采用湿法腐蚀工艺,腐蚀蒸镀的金属电极间及以外的ZnO。
地址 300071天津市卫津路94号
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