| 发明名称 | 透明导电膜和其形成方法、电光学装置及电子仪器 | ||
| 摘要 | 提供对于透明导电膜微细的图案形成可能而且防止由气体或水分的影响造成的透光率降低的透明导电膜和其形成方法及具备这样的透明导电膜的电光学装置、电子仪器。其透明导电膜的形成方法具备：用以聚硅氧烷作为骨架的材质在基板(P)上形成与像素电极(透明导电膜)(19)的形成区域相对应的围堰(B4)的工序；用液滴喷出法在由围堰(B4)划分的区域内配置含有透明导电性微粒子的第1功能液的工序；干燥处理第1功能液而作成第1层膜(19c)的工序；用液滴喷出法在第1层膜(19c)上配置含有金属化合物的第2功能液的工序；和一起烧成第1层膜(19c)和第2功能液形成由第1层膜(19c)和埋住该膜中的空隙的金属氧化物构成的透明导电层(19a)的工序。 | ||
| 申请公布号 | CN1870226A | 申请公布日期 | 2006.11.29 |
| 申请号 | CN200610084872.6 | 申请日期 | 2006.05.23 |
| 申请人 | 精工爱普生株式会社 | 发明人 | 平井利充;守屋克之 |
| 分类号 | H01L21/288(2006.01);H01L21/02(2006.01);H01L21/768(2006.01);H01L21/3205(2006.01);H01L21/00(2006.01);H01L23/485(2006.01);H01L23/522(2006.01);G02F1/1343(2006.01) | 主分类号 | H01L21/288(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 汪惠民 |
| 主权项 | 1.一种透明导电膜的形成方法，在基板上形成透明导电膜，其中，具备：用以聚硅氧烷作为骨架的材质，在基板上形成与上述透明导电膜的形成区域相对应的围堰的工序；用液滴喷出法在由上述围堰划分的区域内配置含有透明导电性微粒子的第1功能液的工序；干燥处理上述第1功能液而作成第1层膜的工序；用液滴喷出法在上述第1层膜上配置含有金属化合物的第2功能液的工序；和一起烧成上述第1层膜和第2功能液，形成由上述第1层膜和埋住该第1层膜中的空隙的金属氧化物构成的透明导电层的工序。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||