| 发明名称 | 包括钛和锆的物理汽相淀积靶件和使用方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及包括钛和锆的物理汽相淀积靶件。这些靶件在整个靶件表面上和厚度中具有均匀的组织结构；与高纯度钛和钽比较还具有增加的机械强度。使用该溅射靶件溅射淀积一薄膜，这一薄膜可用作铜阻挡层。 | ||
| 申请公布号 | CN1285754C | 申请公布日期 | 2006.11.22 |
| 申请号 | CN01811616.7 | 申请日期 | 2001.05.31 |
| 申请人 | 霍尼韦尔国际公司 | 发明人 | S·P·图尔纳 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01) | 主分类号 | C23C14/34(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 蔡民军;黄力行 |
| 主权项 | 1.一种由钛和锆构成并包括小于或等于100μm的平均粒度的溅射靶件。 | ||
| 地址 | 美国新泽西州 | ||