发明名称 |
p型单晶硅片的表面处理方法 |
摘要 |
一种p型单晶硅片的表面处理方法,用于全硅光电子器件、传感器、生物医学和功能材料等领域。本发明包括p型单晶硅片的前处理、电化学阳极氧化法制备p型多孔单晶硅片,然后对p型多孔单晶硅片进行后处理,得到具有发光强度高且在空气中长期存放发光不衰减,峰位不蓝移的p型多孔单晶硅片。 |
申请公布号 |
CN1865541A |
申请公布日期 |
2006.11.22 |
申请号 |
CN200610054245.8 |
申请日期 |
2006.04.25 |
申请人 |
重庆大学 |
发明人 |
黎学明;刘成伦;王力春;黄辉;聂福德;黄亨健 |
分类号 |
C30B33/10(2006.01);C09K11/59(2006.01) |
主分类号 |
C30B33/10(2006.01) |
代理机构 |
重庆大学专利中心 |
代理人 |
张荣清 |
主权项 |
1、一种p型单晶硅片的表面处理方法,其特征在于该方法按以下的顺序步骤进行:(1)对p型单晶硅片进行前处理:除其表面的灰尘、油渍和二氧化硅及其他杂质;(2)用电化学阳极氧化法制备p型多孔单晶硅片,将p型多孔单晶硅片置于乙醇中清洗,然后取出在室温下干燥;(3)对p型多孔单晶硅片进行后处理:(31)按以下组分和重量百分比配制后处理溶液,有机强酸: 20-70%,醇: 30-80%,其中:有机强酸为盐酸、硝酸、硫酸和磷酸任意一种酸,盐酸、硫酸、硝酸和磷酸的浓度为3-6%:或上述4种酸中任意两种酸的混合,其混合重量百分比分别是10-35%,10-35%;或上述4种酸中任意三种酸的混合,其混合重量百分比分别是7-25%,7-20%,6-25%;或上述4种酸的混合,其混合重量百分比分别是5-15%,5-20%,5-15%,5-20%;醇为乙醇、乙二醇、丙三醇和正丁醇中的任一种醇;或上述4种醇中任意两种醇的混合,其混合重量百分比分别是15-40%,15-40%;或上述4种醇中任意三种醇的混合,其混合重量百分比分别是10-25%,10-25%,10-30%;或上述4种醇的混合,其混合重量百分比分别是7-20%,8-20%,8-20%,7-20%;(32)将配制的后处理溶液置于容器内,把p型多孔单晶硅片放入后处理溶液中,在紫外光的照射下静置30-60分钟,紫外灯工作电压为200-250v,紫外灯的功率为250-400W,紫外灯的灯泡与p型多孔单晶硅片上表面之间距离5-20cm;(33)将用紫外灯照射后的p型多孔单晶硅片取出,用蒸馏水清洗,然后放入乙醇中浸泡10-20分钟取出,室温下干燥。 |
地址 |
400044重庆市沙坪坝区沙正街174号 |