| 发明名称 | 抗蚀材料及使用了该抗蚀材料的图案形成方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种抗蚀材料及使用了该抗蚀材料的图案形成方法。目的在于：能够提高抗蚀图案与被处理膜的附着性，防止图案的形状不良。在衬底101上形成由含有为杂环酮的4－戊烷内酰胺的抗蚀材料构成的抗蚀膜102，接着，通过掩膜104对抗蚀膜102照射曝光光103来进行图案曝光。接着，通过将已被图案曝光的抗蚀膜102显像来形成抗蚀图案102a。 | ||
| 申请公布号 | CN1866129A | 申请公布日期 | 2006.11.22 |
| 申请号 | CN200610074073.0 | 申请日期 | 2006.04.04 |
| 申请人 | 松下电器产业株式会社 | 发明人 | 远藤政孝;笹子胜 |
| 分类号 | G03F7/004(2006.01);G03F7/038(2006.01);G03F7/039(2006.01);G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F7/004(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 汪惠民 |
| 主权项 | 1、一种抗蚀材料，其特征在于：含有杂环酮或上述杂环酮的异构体。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||