| 发明名称 | 围堰构造、布线图案形成方法、设备、电光学装置及电子机器 | ||
| 摘要 | 本发明提供消除了布线宽度不同的布线图案中的膜厚差的围堰构造体、膜图案形成方法、设备、电光学装置及电子机器。本发明的围堰构造是将功能液(L)所配置的图案形成区域(P)划分的围堰构造(1)，图案形成区域(P)具备第1图案形成区域(55)、与该第1图案形成区域(55)连接并且与第1图案形成区域(55)相比宽度更小的第2图案形成区域(56)。划分第2图案形成区域(56)的围堰(34b)的内侧面部(56b)的高度低于划分第1图案形成区域(55)的围堰(34a)的内侧面部(55a)的高度。 | ||
| 申请公布号 | CN1866469A | 申请公布日期 | 2006.11.22 |
| 申请号 | CN200610081986.5 | 申请日期 | 2006.05.16 |
| 申请人 | 精工爱普生株式会社 | 发明人 | 守屋克之;平井利充 |
| 分类号 | H01L21/02(2006.01);H01L21/288(2006.01);H01L21/768(2006.01) | 主分类号 | H01L21/02(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 汪惠民 |
| 主权项 | 1.一种围堰构造，是划分配置功能液的图案形成区域的围堰构造，其特征在于，所述图案形成区域具备第1图案形成区域、与该第1图案形成区域连接并且宽度比所述第1图案形成区域小的第2图案形成区域，划分所述第2图案形成区域的围堰的内侧面部的高度，低于划分所述第1图案形成区域的围堰的内侧面部的高度。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||