| 主权项 |
1.一种装置制造方法,包含下列步骤:提供一基板,该基板至少部分地藉一辐射灵敏材料层所覆盖;使用一辐射系统提供一辐射之投影光束;使用反射式制作图案装置给予该投影光束一图案于其横截面中;利用一非远心于物侧上的投影系统投影该制作图案之辐射光束以形成一影像于该辐射灵敏材料层之一标靶部分上;其特征在于下一步骤:偏移及/或倾斜该制作图案装置之一标称之反射式表面以远离该投影系统之一标称之物面而降低该投影影像中之失真及/或重叠误差。2.如申请专利范围第1项之方法,其中该制作图案装置包含一具有一全面的曲率且该投影光束照射该光罩之一弧形区;以及偏移及/或倾斜之该步骤包含倾斜该光罩使得该光罩与该标称之物面间之相交线含于该弧形区之内。3.如申请专利范围第2项之方法,其中该光罩系扫描于该投影步骤之期间,而该扫描之方向系以相同于该光罩倾斜之角度相对于该标称之物面旋转。4.如申请专利范围第1项之方法,其中偏移及/或倾斜之该步骤系执行以实现补偿于该投影系统中之失真且包含该施加至少一下列移动于该标称之反射式表面:绕着一实质地平行于该标称之反射式表面的轴倾斜;以及以一实质地垂直于该标称之反射式表面的方向偏移。5.如申请专利范围第4项之方法,其中该制作图案装置及该基板系扫描于该投影步骤期间,以及偏移及/或倾斜之该步骤包含绕着一实质地平行于该扫描方向之轴倾斜,且该方法进一步包含变化该制作图案装置及该光罩台之相对扫描速度的步骤。6.如申请专利范围第1,4或5项之方法,其中该制作图案装置及该基板系扫描于该投影步骤期间,以及偏移及/或倾斜之该步骤包含倾斜该制作图案装置之扫描方向的步骤。7.如申请专利范围第6项之方法,其中该制作图案之倾斜及扫描方向系在整个标靶区之曝射期间维持实质地恒常。8.如申请专利范围第1,4或5项之方法,其中该制作图案装置包含一保持于一光罩台之上的光罩。9.如申请专利范围第8项之方法,其中该光罩配置有复数个标志包围一图案区,该方法包含藉内插来自该等标志之位置的测量来确定该图案区中该光罩之形状的步骤。10.如申请专利范围第8项之方法,进一步包含利用一干涉仪来测量垂直于该光罩反射式表面上之复数个点的该光罩标称面方向中之位置以确定该光罩形状的步骤。11.如申请专利范围第1项之方法,其中该投影光束系具有波长在5至20奈米(nm)之范围的辐射。12.一种光罩,使用于如申请专利范围第1项之方法中,具有复数标示包围一图案区。图式简单说明:图1显示根据本发明实施例之微影投影装置;图2显示本发明第一实施例之投影系统;图3系系一图式,描绘反射式光罩之垂直位移如何造成该投影系统所投影之影像的水平位移;图4A及4B系图式,描绘光罩旋转的效应;图5系一图式,描绘根据本发明之测量具有透明基板之反射式光罩之垂直位置的方法;图6系一图式,显示根据本发明之测量光罩垂直位置之选择性方法中所使用之标志的位置;以及图7至图12系图式,描绘投影在基板上之影像上的光罩之不同形变的效应。 |
