| 主权项 |
1.一种微影装置,其包含:- 一照明系统,其用以提供一辐射投影光束;- 一支撑结构,其用来支撑图案化构件,该图案化构件系用来赋予该投影光束一图案化剖面;- 一基板台,其用以固持一基板;- 一投影系统,其用以将该图案化的光束投射至该基板之一目标部份上;- 一液体供应系统,其藉由一浸泡液体来至少部分填充介于该投影系统与定位于该基板台上的一物件之间的一空间;其特征系进一步包含用以从该物件、该基板台或从该物件与该基板台两者主动移除液体之一主动乾燥站。2.如请求项1之装置,其中该主动乾燥站系位于该投影系统与一基板后曝光处理模组之间。3.如请求项1或2之装置,其中该基板台将该物件传输至该主动乾燥站。4.如请求项1或2之装置,其中该基板台在藉由该主动乾燥站而从该物件主动移除液体期间支撑该物件。5.如请求项1或2之装置,其中该主动乾燥站包含气流构件,其于该物件之一表面、该基板台或该物件表面与该基板台两者上提供一气流。6.如请求项1或2之装置,其中该主动乾燥站包含至少一气体入口,其用以于该物件之一表面、该基板台或该物件表面与该基板台两者之上提供气体。7.如请求项6之装置,其中该气体入口形成一气刀。8.如请求项7之装置,其中该气刀进一步包含另一气体入口与定位于该等气体入口之间的一气体出口。9.如请求项6之装置,其进一步包含一气体出口以从该物件之该表面、该基板台或从该物件表面与该基板台两者移除气体,该气体入口实质上围绕该气体出口之该周边。10.如请求项6之装置,其中该气体入口包含具有至少十个入口之一气体淋浴头。11.如请求项1或2之装置,其中该主动乾燥站包含一浸泡液体溶解液供应构件,其用以将其中溶解有该浸泡液体之一液体提供至该物件之一表面、该基板台或该物件表面与该基板台两者。12.如请求项11之装置,其中该浸泡液体溶解液比该浸泡液体之挥发性更强。13.如请求项12之装置,其中该浸泡液体溶解液系一酮或一醇。14.如请求项1或2之装置,其中该主动乾燥站包含至少一气体出口,其用以从该物件之该表面、该基板台或从该物件表面与该基板台两者移除气体、液体或气体与液体两者。15.如请求项1或2之装置,其中该主动乾燥站包含一旋转器,其用以旋转该物件、该基板台或该物件与该基板台两者。16.如请求项1或2之装置,其中该物件包含一基板。17.如请求项1或2之装置,其中该物件包含一感测器。18.一种元件制造方法,其包含:- 提供由一基板台支撑之一基板;- 使用一照明系统来提供一辐射投影光束;- 使用图案化构件来赋予该投影光束一图案化剖面;- 在一投影系统之一最终元件与该基板台上之一物件之间提供一浸泡液体;- 使用该投影系统将该图案化的辐射光束投射到该物件之一目标部分上,其特征在于从该物件、该基板台或从该物件与该基板台两者主动地移除液体。19.如请求项18之方法,其包含在该物件之一表面、该基板台或该物件表面与该基板台两者之上提供一气流。20.如请求项19之方法,其中该气流形成一气刀。21.如请求项20之方法,其中该气刀包含于两位置提供气体并从介于该等两位置之间的一位置移除该气体。22.如请求项19之方法,其进一步包含在一位置处从该物件之该表面、该基板台或从该物件表面与该基板台两者移除气体,该位置实质上围绕一提供该气体的位置之一周边。23.如请求项19之方法,其包含藉使用具有至少十个入口之一气体淋浴头来提供该气体。24.如请求项18之方法,其进一步包含将其中溶解有该浸泡液体之一溶解液提供至该物件之一表面、该基板台或该物件表面与该基板台两者。25.如请求项24之方法,其中该溶解液体比该浸泡液体之挥发性更强。26.如请求项24之方法,其中该溶解液体包含一酮或一醇。27.如请求项18之方法,其包含从该物件之该表面、该基板台或从该物件表面与该基板台两者移除气体、液体或气体与液体两者。28.如请求项18、19、20、21、22、23、24、25、26或27中任一项之方法,其包含旋转该物件、该基板台或该物件与该基板台两者。29.如请求项18、19、20、21、22、23、24、25、26或27中任一项之方法,其中该物件包含一该基板。30.如请求项18、19、20、21、22、23、24、25、26或27中任一项之方法,其中该物件包含一感测器。图式简单说明:- 图1说明依据本发明之一项具体实施例之一微影装置;- 图2说明其中采用一气刀之主动乾燥站之一项具体实施例;- 图3说明其中采用一气体淋浴头之主动乾燥构件之一项具体实施例;- 图4示意性说明该主动乾燥站之一项具体实施例中使用的一旋转器之原理;- 图5以断面图说明一气刀之一项范例性具体实施例;- 图6以断面图说明依据本发明之一液体供应构件;以及- 图7以平面图显示图6之液体供应系统。- 图8显示采用一局部化液体供应系统之另一浸泡微影解决方式。 |
