| 主权项 |
1.一种用于耦合一测试头至一安装单元之设备,其中该测试头可枢轴旋转,该设备包括:一基座,其具有复数基座附着位置,该基座在此附着位置附着至该测试头及该安装单元之一;一滑块,其滑离及滑向该测试头之重心,该滑块包含至少一滑块附着位置,该滑块在此附着位置附着至该测试头及该安装单元之另一个;及一调整构件,其用于改变该滑块相对该基座之位置,以将该滑块滑离及滑向该测试头之重心。2.一种用于耦合一测试头至一安装单元之设备,其中该测试头可枢轴旋转,该设备包括:一基座,其具有一相对该基座滑动之滑件,使得该滑件滑离及滑向该测试头之重心;该基座之第一位置,用于附着该基座至该测试头及该安装单元之一;该滑块之第二位置,用于附着该滑块至该测试头及该安装单元之另一个;及一紧固装置,其用于防止该滑块相对该基座滑动。3.如申请专利范围第1项之设备,其中该基座包含一延伸远离该测试头之延伸构件,及其中该调整构件由该延伸构件伸出,用于相对该基座固定该滑块之位置。4.如申请专利范围第2项之设备,其中该基座包含一延伸远离该测试头之延伸构件,及其中该调整构件由该延伸构件伸出,用于相对该基座固定该滑块之位置。5.如申请专利范围第1项之设备,其中该基座包含一延伸朝向该测试头之延伸构件,及其中该调整构件由该延伸构件伸出,用于相对该基座固定该滑块之位置。6.如申请专利范围第2项之设备,其中该基座包含一延伸朝向该测试头之延伸构件,及其中该调整构件由该延伸构件伸出,用于相对该基座固定该滑块之位置。7.如申请专利范围第1项之设备,其中该滑件在该基座中所形成之一槽道内滑动。8.如申请专利范围第2项之设备,其中该滑件在该基座中所形成之一槽道内滑动。9.一种用于耦合一测试头至一安装单元之设备,其中该测试头可枢轴旋转,该设备包括:一基座,其附着至该测试头及该安装单元之一;一滑块,其滑离及滑向该测试头之重心;及一调整构件,其用于改变该基座相对该滑块之位置,以将该滑块滑离及滑向该测试头之重心。10.如申请专利范围第1项之设备,尚包括第二滑块,该第二滑块于相对该滑块之另一滑动方向具有正交分量之方向中滑离及滑向该测试头之重心。11.如申请专利范围第10项之设备,其中该第二滑块系位该滑块及该基座于之间。12.如申请专利范围第10项之设备,尚包括用于相对该基座改变该第二滑块之另一种位置之另一调整构件。13.一种用于耦合一测试头至一安装单元之设备,其中该测试头可枢轴旋转,该设备包括:一基座;第二基座,其具有第一位置,用于附着该第二基座至该测试头及该安装单元之一;一调整构件,其用于改变该第二基座相对该基座之位置,以致该第二基座滑离及滑向该测试头之重心;一滑块,其具有第二位置,用于附着该滑块至该测试头及该安装单元之另一个;及另一调整构件,其用于相对该第二基座之滑动方向具有正交分量之方向中相对该第二基座改变该滑块之另一位置,以将该滑块滑离及滑向该测试头之重心。14.如申请专利范围第13项之设备,其中该滑块在该第二基座中所形成之一槽道内滑动。15.如申请专利范围第13项之设备,其中该第二基座在该基座中所形成之另一槽道内滑动。16.如申请专利范围第13项之设备,其中该基座包含一延伸远离该测试头之延伸构件,及其中该调整构件由该延伸构件伸出,用于相对该基座固定该滑块之位置。17.如申请专利范围第13项之设备,其中该基座包含一延伸远离该安装单元之延伸构件,及其中该调整构件由该延伸构件伸出,用于相对该基座固定该滑块之位置。18.如申请专利范围第13项之设备,尚包括用于至少下列一种功能之紧固装置:a)防止该滑块相对该第二基座移动;及b)防止该第二基座相对基座移动。19.一种平衡一测试头之方法,该方法包括下列步骤:测定该测试头是否正绕着一未通过该测试头重心之轴旋转;及使一滑件与该测试头沿着一线一起滑动,以致该轴移向该重心。20.如申请专利范围第19项之方法,其中该线系直的。21.如申请专利范围第19项之方法,其中该线系弯曲的。22.如申请专利范围第19项之方法,其中该测试头沿着该线滑动。图式简单说明:图1系按照本发明第一示范具体实施例之设备立体图,用于将一测试头附着至一摇架。图2系上面按照本发明第一示范具体实施例之另一设备立体图,及供给该测试头之某一重心。图3显示图2联接单元位于供给异于图2重心之另一测试头重心位置。图4系图1-3所示设备之一分解立体图。图5A系一立体图,其可用于显示该第一具体实施例如何与测试头及枢轴旋转式摇架(其至少为安装单元之一部份)一起使用。图5B系一立体图,其可用于显示该第一具体实施例与测试头及枢轴旋转式摇架一起使用之另一方式。图6系本发明第二示范具体实施例之立体图。图7系图6所示设备之一分解图。图8A系一立体图,其可用于显示该第二具体实施例如何与测试头及枢轴旋转式摇架一起使用。图8B系一立体图,其可用于显示该第二具体实施例与测试头及枢轴旋转式摇架一起使用之另一方式。 |
