发明名称 彩色滤光基板及具备其之液晶显示装置以及彩色滤光基板之制造方法
摘要 本发明之彩色滤光基板及液晶显示装置系包含配设于基板上之排列多数色层之彩色层、比彩色层突出之层叠物层、覆盖彩色层及层叠物层之对向电极、层叠于至少覆盖彩色层之部分之对向电极之配向膜、及层叠于覆盖层叠物层之部分之对向电极之全域之绝缘层。藉此,防止对向电极与像素电极间之短路,而提供可提高液晶显示装置之良率之彩色滤光基板及具备其之液晶显示装置以及彩色滤光基板之制造方法。
申请公布号 TWI266904 申请公布日期 2006.11.21
申请号 TW093140546 申请日期 2004.12.24
申请人 夏普股份有限公司 发明人 八木敏文;津幡俊英;德田刚
分类号 G02B5/23(2006.01);G02F1/1333(2006.01) 主分类号 G02B5/23(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 1.一种彩色滤光基板,其系在基板上形成层叠多数 色层之突出构造部、对向电极及配向膜者,其特征 在于: 在至少覆盖1个上述突出构造部之部分之对向电极 之全域层叠绝缘层者。 2.一种彩色滤光基板,其系包含: 突出构造部,其系配设在基板上,层叠以单层排列 有多数色层之着色层及多数色层且比上述着色层 更突出者; 对向电极,其系覆盖上述着色层及突出构造部者; 及 配向膜,其系层叠于至少覆盖上述着色层之部分之 对向电极者,其特征在于: 在至少覆盖1个上述突出构造部之部分之对向电极 之全域层叠绝缘层者。 3.如请求项2之彩色滤光基板,其中上述绝缘层之膜 厚系比配向膜之膜厚更厚者。 4.如请求项2之彩色滤光基板,其中形成于上述突出 构造部之绝缘层系至少具有2种不同层厚之区域; 在形成于上述突出构造部之绝缘层中,覆盖包覆突 出构造部之最顶部之对向电极之区域之至少一部 分之层厚大于其他区域之层厚者。 5.如请求项2至4中任一项之彩色滤光基板,其中上 述突出构造部系层叠具有互异之色之层之突出构 造部形成层所构成者。 6.如请求项5之彩色滤光基板,其中上述突出构造部 形成层系含有形成上述着色层之色层中至少1色层 所构成者。 7.如请求项5之彩色滤光基板,其中上述突出构造部 形成层系层叠有形成上述着色层之多数色层所构 成者。 8.如请求项2至4中任一项之彩色滤光基板,其中包 含黑矩阵层作为形成上述着色层之色层之一者。 9.如请求项1至4中任一项之彩色滤光基板,其中上 述突出构造部系包含黑矩阵层所构成者。 10.如请求项1至4中任一项之彩色滤光基板,其中上 述绝缘层系由感光性树脂所形成者。 11.如请求项1至4中任一项之彩色滤光基板,其中上 述绝缘层系由无机矽化合物所形成者。 12.如请求项1至4中任一项之彩色滤光基板,其中上 述绝缘层之层厚系0.1m以上者。 13.如请求项1至4中任一项之彩色滤光基板,其中上 述突出构造部至少层叠3层以上之色层者。 14.如请求项2至4中任一项之彩色滤光基板,其中在 上述着色层上之一部分设有限制液晶之配向用之 突起部; 上述突起部系以与上述绝缘层相同之材料形成者 。 15.一种液晶显示装置,其系具备请求项1至4中任一 项之彩色滤光基板者。 16.一种液晶显示装置,其系经由液晶层而将彩色滤 光基板与具有像素电极之像素电极基板对向配置 者,其特征在于: 上述彩色滤光基板系请求项1至4中任一项之彩色 滤光基板; 设于上述彩色滤光基板之上述突出构造部之绝缘 层中覆盖包覆突出构造部之最顶部之对向电极之 区域之至少一部分系接触于上述像素电极基板者 。 17.一种液晶显示装置,其系经由液晶层而将彩色滤 光基板与具有像素电极之像素电极基板对向配置 者,其特征在于: 上述彩色滤光基板系请求项1至4中任一项之彩色 滤光基板; 设于上述彩色滤光基板之上述突出构造部之表面 之绝缘层之接触于像素电极基板之接触部分之层 厚系大于绝缘层之其他区域之层厚者。 18.一种彩色滤光基板之制造方法,其系制造在基板 上形成层叠多数色层之突出构造部、对向电极及 配向膜之彩色滤光基板之制造方法,其特征在于具 有: 在至少覆盖1个上述突出构造部之部分之对向电极 之全域层叠绝缘层之绝缘层形成工序者。 19.一种彩色滤光基板之制造方法,其系包含下列各 部之彩色滤光基板之制造方法者:突出构造部,其 系配设在基板上,层叠以单层排列有多数色层之着 色层及多数色层且比上述着色层更突出者;对向电 极,其系覆盖上述着色层及突出构造部者;及配向 膜,其系层叠于至少覆盖上述着色层之部分之对向 电极者;其特征在于:具有在至少覆盖1个上述突出 构造部之部分之对向电极之全域层叠绝缘层之绝 缘层形成工序者。 20.如请求项18或19之彩色滤光基板之制造方法,其 中将上述绝缘层之膜厚形成比配向膜之膜厚更厚 者。 21.如请求项20之彩色滤光基板之制造方法,其中在 形成于上述突出构造部之绝缘层中,覆盖包覆突出 构造部之最顶部之对向电极之区域之至少一部分 之层厚大于其他区域之层厚者。 22.如请求项18或19之彩色滤光基板之制造方法,其 中在上述绝缘层形成工序中,将感光性树脂层形成 于上述对向电极表面上,并施行该感光性树脂层之 曝光及显影者。 23.如请求项22之彩色滤光基板之制造方法,其中在 上述绝缘层形成工序中,使上述感光性树脂层中形 成于上述突出构造部之表面上之树脂层区域曝光 之际,使曝光该树脂层区域之曝光量相异者。 图式简单说明: 图1系表示具备本发明之彩色滤光基板之液晶显示 装置之一实施型态之剖面图。 图2系表示上述彩色滤光基板之一例之平面图。因 此,本图未必对应于图1。 图3系表示上述彩色滤光基板之突出构造部之构造 之之一例之平面图。因此,本图未必对应于图1。 图4(a)~图4(d)系表示上述彩色滤光基板之制程之剖 面图。 图5(a)~图5(c)系表示上述彩色滤光基板之制程之后 续之剖面图。 图6(a)及图6(b)系表示上述彩色滤光基板之制程之 后续之剖面图。 图7系表示具备本发明之另一彩色滤光基板之液晶 显示装置之实施型态之剖面图。 图8(a)及图8(b)系表示上述彩色滤光基板之制程之 剖面图。 图9(a)及图9(b)系表示上述彩色滤光基板之另一制 程之剖面图。 图10系表示具备本发明之又另一彩色滤光基板之 液晶显示装置之实施型态之剖面图。 图11(a)~图11(d)系表示上述彩色滤光基板之制程之 剖面图。 图12(a)~图12(d)系表示上述彩色滤光基板之制程之 后续之剖面图。 图13系表示以往之液晶显示装置之剖面图。 图14系表示以往之另一液晶显示装置之剖面图。
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