一种全域性薄膜应力计测方法

摘要

本发明提供了一种用于全域性薄膜应力计测的方法，其系应用目前光电产业所普遍采用商用干涉仪为量测工具，以BK–7光学基板在不同基板温度下蒸镀一单层二氧化矽抗反射薄膜为例，利用基板镀膜前后相位变化结果为依据，而筛选Zernike多项式函数作为位移场函数，以建立镀膜前后基板光波前(Wavefront)变化与基板–薄膜结构之变形关系，所发展出一种新的全域性薄膜应力计测方法。