发明名称 聚乙烯醇系薄膜及使用其之偏光膜和偏光板
摘要 本发明所提供的聚乙烯醇系薄膜,系从光源使用波长633nm的He–Ne雷射施行光散射测量的结果,所导出的相关长度在200nm以下。
申请公布号 TW200639449 申请公布日期 2006.11.16
申请号 TW094146946 申请日期 2005.12.28
申请人 合成化学工业股份有限公司 发明人 早川诚一郎;北村秀一;西本由香里;千神昭彦
分类号 G02B5/30(2006.01) 主分类号 G02B5/30(2006.01)
代理机构 代理人 赖经臣;宿希成
主权项
地址 日本