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发明名称
聚乙烯醇系薄膜及使用其之偏光膜和偏光板
摘要
本发明所提供的聚乙烯醇系薄膜,系从光源使用波长633nm的He–Ne雷射施行光散射测量的结果,所导出的相关长度在200nm以下。
申请公布号
TW200639449
申请公布日期
2006.11.16
申请号
TW094146946
申请日期
2005.12.28
申请人
合成化学工业股份有限公司
发明人
早川诚一郎;北村秀一;西本由香里;千神昭彦
分类号
G02B5/30(2006.01)
主分类号
G02B5/30(2006.01)
代理机构
代理人
赖经臣;宿希成
主权项
地址
日本
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