发明名称 用于清洗含低介电常数(LOW-K)微电子装置之具有极性及非极性溶剂混合物之液态氟化物清洁剂
摘要 本发明系关于一种液态移除组成物及方法,用于自其上具有灰化后残留物、蚀刻后残留物及/或底部抗反射涂层(BARC)残留物之微电子装置移除该残留物。此液态移除组成物包含一氟化物源及一两亲媒性溶剂。此组成物可达成残留物质自微电子装置的高效率移除,而不会损坏使用于微电子装置结构中之金属物种或低k介电材料。
申请公布号 TW200639595 申请公布日期 2006.11.16
申请号 TW095112784 申请日期 2006.04.11
申请人 尖端科技材料公司 发明人 大卫 明赛克;大卫 伯恩哈德;汤玛斯 鲍姆
分类号 G03F7/42(2006.01);C11D7/32(2006.01);C11D7/28(2006.01);C11D7/50(2006.01);H01L21/311(2006.01) 主分类号 G03F7/42(2006.01)
代理机构 代理人 赖经臣;宿希成
主权项
地址 美国