发明名称 |
用于清洗含低介电常数(LOW-K)微电子装置之具有极性及非极性溶剂混合物之液态氟化物清洁剂 |
摘要 |
本发明系关于一种液态移除组成物及方法,用于自其上具有灰化后残留物、蚀刻后残留物及/或底部抗反射涂层(BARC)残留物之微电子装置移除该残留物。此液态移除组成物包含一氟化物源及一两亲媒性溶剂。此组成物可达成残留物质自微电子装置的高效率移除,而不会损坏使用于微电子装置结构中之金属物种或低k介电材料。 |
申请公布号 |
TW200639595 |
申请公布日期 |
2006.11.16 |
申请号 |
TW095112784 |
申请日期 |
2006.04.11 |
申请人 |
尖端科技材料公司 |
发明人 |
大卫 明赛克;大卫 伯恩哈德;汤玛斯 鲍姆 |
分类号 |
G03F7/42(2006.01);C11D7/32(2006.01);C11D7/28(2006.01);C11D7/50(2006.01);H01L21/311(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/42(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
赖经臣;宿希成 |
主权项 |
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地址 |
美国 |