光阻剥离液组成物以及剥离光阻的方法

摘要

本发明的课题系提供一种光阻剥离液组成物以及剥离光阻及剥离光阻变质层的方法，该光阻剥离液组成物在半导体电路元件的制程，对乾蚀刻后所残余的光阻及光阻变质层等具有优良的剥离性、且对新的配线材料或层间绝缘膜材料等亦不会产生浸蚀。本发明之解决手段系使用一种光阻剥离液组成物，其含有炔属醇化合物及有机磺酸化合物中至少1种、以及多元醇和其衍生物中至少1种。