用于微影应用之精密测定专用平台

摘要

本发明关于一用以侦测与一曝光部分或一曝光光束有关之参数的系统与方法。该系统包括一基板平台以及一精密测定专用平台。该基板平台系配置以使一基板定位，以接收一来自一微影系统之曝光部分的曝光光束。该精密测定专用平台于其上具有一配置以侦测该曝光系统或该曝光光束之参数的感应器系统。于一范例中，该系统系位于一微影系统内，其进一步包括一照明系统、一图案器件以及一投影系统。该图案器件将来自该照明系统之一辐射光束图案化。位于该曝光部分内之投影系统，会将该图案化光束投影至该基板或该感应器系统上。