射束校准方法及校准体之利用

摘要

本案系关于一种微粒射束之射束位置的校准方法，系使用具有多个结构的一校准体，其中该等结构具有位于该平面区域内的一结构周期Ps，且每个结构内存在用以进行测量的一位置L。对于该校准，分别于该校准体之该平面区域中的每个结构上产生至少一侦测信号，其中该微粒射束系藉由多个偏转器(deflector)而被偏转至具有一射束目标周期P1的多个射束目标位置L1上，该射束目标周期P1系大于该结构周期Ps的一半，其中一基础校准系用以控制该等偏转器，且其中射束目标偏转系由该结构周期Ps偏转至该射束目标周期P1及／或由该位置L偏转至该射束目标位置L1。