光罩基底的表面处理方法以及由此制造的光罩

摘要

本发明涉及一种光罩制造用的光罩基底，光罩及光罩的制造方法。本发明的特征是形成由透光基板上之相移膜、光阻止膜和抗反射膜所构成的组中所选取的至少一膜，对此膜进行热处理和表面处理，然后涂布一种光阻膜。经由对相移膜、光阻止膜和抗反射膜所构成的组中所选取的至少一膜进行热处理和表面处理，则空中分子污染物之程度可下降且基板相依性亦可下降。因此，在KrF或ArF准分子雷射微影过程中可得到一种光阻图样很优良的光罩，其无”生长缺陷”。