发明名称 DISPOSITIVO Y PROCEDIMIENTO DE DEPURACION DE EFLUENTE GASEOSO.
摘要 Dispositivo de depuración de un efluente gaseoso que contiene contaminantes, comprendiendo dicho dispositivo: - un reactor que tiene un eje longitudinal y comprende por lo menos una entrada para el gas que se ha de depurar y por lo menos una salida para el gas depurado, - por lo menos una fuente de radiación ultravioleta o visible, y - por lo menos un elemento de soporte, dispuesto en el interior del reactor y revestido de un catalizador formando una superficie catalítica expuesta y capaz de oxidar por lo menos parcialmente los contaminantes bajo la acción de radiación ultravioleta o visible entregada por la fuente, caracterizado por una parte por la presencia, en el interior del reactor, de por lo menos dos medios de obstrucción, obstruyendo cada uno de dichos medios de obstrucción parcialmente el paso del efluente gaseoso desde dicha entrada hasta dicha salida y generando una zona de gas turbulenta de su lado de abajo en relación con el paso del efluente gaseoso, la superficie de cada unode dichos medios de obstrucción tal que proyectada sobre un plano ortogonal al eje longitudinal al reactor ocupando por lo menos 1/3 de la sección interna del reactor disponible para el paso del efluente gaseoso, y por otra parte por el hecho de que una superficie catalítica está dispuesta en cada una de dichas zonas de gas turbulento de forma que el paso del gas turbulento incida sobre dicha superficie catalítica.
申请公布号 ES2261512(T3) 申请公布日期 2006.11.16
申请号 ES20010991844T 申请日期 2001.12.13
申请人 UNIVERSITE CATHOLIQUE DE LOUVAIN 发明人 KARTHEUSER, BENOIT;MAY, BRONISLAV, HENRI;DESPRES, JEAN-FRANCOIS
分类号 B01D53/86;(IPC1-7):B01D53/86 主分类号 B01D53/86
代理机构 代理人
主权项
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