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发明名称 Wafer-Reinigungssystem und Verfahren zum Reinigen eines Wafers
摘要
申请公布号 DE10310543(B4) 申请公布日期 2006.11.16
申请号 DE2003110543 申请日期 2003.03.11
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO. LTD. 发明人 YEO, IN-JUN;KIM, KYUNG-HYUN;NAM, JEONG-LIM;YOON, BYOUNG-MOON;CHO, HYUN-HO;HAH, SANG-ROK
分类号 H01L21/302;H01L21/304;B08B3/02;B08B3/12;H01L21/00 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
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